Anlagen
- 3 Magnetron-Sputter-Systeme
- Abscheidung bei bis zu 950 °C
- Probengröße bis 300 mm Wafer
- magnetische, oxidische Dünnschichten mit einer Dicke von 1 nm bis zu 1 μm
- Mono- und Multilagen-Schichtsysteme mit sub-nm Genauigkeit
- Auflösung bis zu 2 μm
- 405 nm Laser
- Proben bis zu 25 cm x 25 cm
- Wedge-Wedge mit 17 μm Al Draht
- Ball-Wedge mit 25 μm Gold Draht
- Transducer Frequenz bis zu 140 kHz
- starre und flexible Probensubstrate
- nicht invasive Tröpfchendetektion in kleinen Röhrchen (Durchmesser von 500 μm und kleiner)
- Überwachung der Tröpfchen, schnelles Screening verschiedener Substanzen
- optische, magnetische und Impedanz Detektion von verschieden Analyse
- Auflösung < 14 nm
- Proben bis zu 10 cm x 10 cm
- senkrechte Messunsicherheit 1 – 10 nm
- 3D Oberflächenmorphologie