• 3 Magnetron Sputtern Anlagen
  • Abscheidung bei bis zu 950 degC
  • Probengröße bis 300 mm Wafer
  • magnetische, oxidische Dünnschichten mit einer Dicke von 1 nm bis zu 1 µm
  • Mono- und Multilagen – Schichtsysteme mit sub-nm Genauigkeit